नवीन आगमन प्लेट फ्रेम एक्सचेंजर - फायबर लेसर वेल्डेड उशा प्लेट हीट एक्सचेंजर - केमिकिप इंडस्ट्रीज कंपनी, लि.
नवीन आगमन प्लेट फ्रेम एक्सचेंजर - फायबर लेसर वेल्डेड उशा प्लेट हीट एक्सचेंजर - केमिकिप इंडस्ट्रीज कंपनी, लि. तपशील:
आमचा व्यवसाय ब्रँड रणनीतीवर लक्ष केंद्रित करीत आहे. ग्राहकांचा आनंद ही आमची सर्वोत्कृष्ट जाहिरात आहे. आम्ही ओईएम कंपनी देखील ऑफर करतोएचव्हीएसीसाठी स्लरी आईस मशीन , चांगली पारगम्यता प्लेट आईस मशीन , फ्लॅट प्लेट हीट एक्सचेंजर, नेहमीच बहुतेक व्यावसायिक वापरकर्ते आणि व्यापा .्यांसाठी उत्कृष्ट गुणवत्ता उत्पादने आणि उत्कृष्ट सेवा प्रदान करण्यासाठी. फ्लाइंग ड्रीमसाठी आमच्यात सामील होण्यासाठी, एकत्र नवनिर्मिती करू या.
नवीन आगमन प्लेट फ्रेम एक्सचेंजर - फायबर लेसर वेल्डेड उशा प्लेट हीट एक्सचेंजर - केमिकिप इंडस्ट्रीज कंपनी, लि. तपशील:
उशा प्लेट उष्णता हस्तांतरण पृष्ठभाग एक पॅनेल-प्रकार उष्णता एक्सचेंजर आहे जो आकार आणि आकारांच्या अंतहीन श्रेणीमध्ये बनविला जाऊ शकतो. हे उच्च दबाव आणि तापमानाच्या टोकाच्या अनुप्रयोगांसाठी योग्य आहे.
पिलो प्लेट हीट एक्सचेंजर अत्यंत कार्यक्षम उष्णता हस्तांतरण कार्यक्षमता प्रदान करते. फायबर लेसर-वेल्डेड आणि फुगलेल्या चॅनेलद्वारे उच्च उष्णता हस्तांतरण गुणांक प्राप्त करण्यासाठी द्रवपदार्थ मोठ्या गोंधळास प्रवृत्त करते.
आमचे फायबर लेसर वेल्डेड उशा प्लेट हीट एक्सचेंजर बहुतेक उष्मा एक्सचेंजर उपकरणांसाठी वापरले जाऊ शकते जसे की:
(१) उशी प्लेट? आईस थर्मल स्टोरेजसाठी आईस बँक
(२) उशा प्लेट फॉलिंग फिल्म चिलर
()) डिंपल टँक
()) प्लेट आईस मशीन
()) बाष्पीभवन प्लेट कंडेन्सर
()) विसर्जन प्लेट हीट एक्सचेंजर
()) बल्क सॉलिड हीट एक्सचेंजर
()) सांडपाणी पाण्याचे उष्णता एक्सचेंजर
()) फ्लू गॅस हीट एक्सचेंजर
1. स्टीम | 2. पाणी |
3.? कंडक्शन ऑइल | B.?freon |
5.मोनिया | 6. ग्लायकोल सोल्यूशन |
(१) फुगलेल्या चॅनेल उच्च उष्णता हस्तांतरण कार्यक्षमता साध्य करण्यासाठी उच्च अशांतता प्रवाह तयार करतात
(२) स्टेनलेस स्टील एसएस 304, 316 एल, 2205 हॅस्टेलॉय टायटॅनियम आणि इतर सारख्या बर्याच सामग्रीमध्ये उपलब्ध
()) सानुकूलित आकार आणि आकार उपलब्ध आहेत
()) जास्तीत जास्त अंतर्गत दबाव 60 बार आहे
()) कमी दाब थेंब
आमचे उशी प्लेट हीट एक्सचेंजर फॉलिंग फिल्म चिलर, आईस बँक, जॅकेट टँक आणि प्लेट आईस मशीन, विसर्जन प्लेट हीट एक्सचेंजर इ. च्या निर्मितीसाठी मोठ्या प्रमाणात लागू केले जाऊ शकते.